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ALVC Aluminium Vapor Chamber
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ALVC Aluminium Vapor Chamber

ALVC Aluminium Vapor Chamber

Hocheffiziente Zwei‑Phasen‑Vapor‑Chambers (2‑Phasen‑Wärmespreizer) in ultraleichter Aluminiumbauweise. Entwickelt für die gezielte Entwärmung von GPUs, CPUs, IGBT‑Leistungselektronik und BESS‑Energiespeichern.

Die ALVC Aluminium Vapor Chamber kombiniert die extrem hohe Wärmeleitfähigkeit von Phasenwechsel-Systemen (5.000 bis 10.000 W/(m·K)) mit dem geringen Eigengewicht von Aluminium.

Gegenüber herkömmlichen Kupfer-Vapor-Chambers spart die ALVC-Technologie bis zu 60 % Gewicht ein – bei vergleichbarer thermischer Spreizleistung. Dies macht sie zur idealen Lösung für automotive Anwendungen, Luft- und Raumfahrt sowie dichte Server-Racks.

Spezifikationen & Leistungsdaten

Technologie
Aluminium-Zweiphasen-Vapor-Chamber (Aluminum Vapor Chamber)
Effektive Wärmeleitfähigkeit
5.000 bis 10.000 W/(m·K) (bis zu 25-mal besser als massives Kupfer)
Gewichtsersparnis
Bis zu 60 % leichter als konventionelle Kupfer-Vapor-Chambers
Fertigungsverfahren
Strangpressprofile mit Rührreibschweiß-Versiegelung (FSW)
Betriebsmedium
Umweltverträgliche Kältemittel oder Aceton im Hochvakuum
Dichtigkeitsprüfung
100 % Inline-Helium-Massenspektrometrie-Prüfung
Zielmärkte
Automotive, E-Mobilität, Rechenzentren, HPC, Luft- und Raumfahrt

Standardprofile

ProfilDicke
[mm]
Breite
[mm]
Empf. Länge [mm]Min. Biegeradius (inner)Qmax [W]
MinMaxLängsPlanarHoriz.Vert.
WW-T1.5W501.550150300R3—5~10~25
WW-T2.0W302.03070300R4R153~8~20
WW-T2.0W402.04070300R4—5~10~30
WW-T2.0W51.82.051.870300R4—7~15~45
WW-T2.0W602.06070300R4—8~15~50
WW-T2.0W99.52.099.570500R4—20~50~100
WW-T2.5W502.55070300R5—10~20~60
WW-T2.5W852.58570300R5—50~120~120
WW-T3.0W303.03070300R6R3030~80~150
WW-T3.0W403.04070300R6—30~100~200
WW-T3.0W503.05070300R6—30~100~250
WW-T3.0W953.09570400R6—30~120~350
WW-T3.0W1043.010470400R6—40~150~400